Respondemos todas aquellas dudas referentes a los diferentes procesos implicados en la propiedad industrial.
Se pueden hacer búsquedas gratuitas en la web de la OEPM, entrando en el apartado “Buscar invenciones” donde es posible acceder tanto a la base de datos de patentes en español (INVENES) como a la base de datos Espacenet de patentes extranjeras, entre otras.
En el caso de que realices la consulta de la base INVENES el idioma de consulta será el español, mientras que en el caso de Espacenet la búsqueda debe realizarse en inglés.
En ambos casos, al acceder a la base de datos se abrirán una serie de campos que te permitirán la consulta por diferentes criterios.
Por ejemplo, si accedes a la base española puede introducir en el campo “Título” palabras que definan el objeto que desea buscar (por ejemplo “silla de ruedas”). Se recuperarán una serie de documentos que incluirán estas palabras en tu título y que podrán consultarse.
Si encuentra documentos que te interesen, puedes utilizar las clasificaciones internacionales de los mismos para completar la búsqueda.
En la página web de la OEPM es posible consultar diversos ejemplos de cómo llevar a cabo estas búsquedas dentro del apartado “Buscar invenciones”.
Por otra parte, la OEPM te ofrece servicios profesionales de pago para conocer la tecnología registrada sobre un tema determinado. Puedes encontrar más información al respecto en el apartado de “Información Tecnológica”.
Algunas empresas propietarias de patentes conocidas que han emprendido acciones legales por violación de patentes y que han visto reconocido su derecho obteniendo sustanciosas indemnizaciones:
- Samsung tuvo que pagar 290 millones de $ a Apple por infracción de patentes relacionadas con tablets y Smartphones:
- La empresa Ros Roca condenada a 2,8 millones de € a Envac por infracción de patente.
- Samsung condenada a pagar 23 millones de US$ a la empresa española Fractus por infracción de sus patentes sobre antenas para móviles:
http://www.businesswire.com/news/home/20120731005445/es/#.VbD_EfntlBc
Según el artículo 23.2 de la Ley 24/2015 de Patentes y el artículo 2.h) de su Reglamento de ejecución, en los supuestos previstos en el Reglamento (UE) nº 511/2014, es decir, en las invenciones que se refieran a un recurso genético o a un conocimiento tradicional asociado a un recurso genético obtenido en un país parte del Protocolo de Nagoya cuya legislación nacional regule el acceso al mismo, se debe:
• Incluir la mención de su origen geográfico o la fuente de procedencia del recurso si estos datos son conocidos
• Aportar el número de certificado que justifique la presentación de la declaración de diligencia debida de conformidad con el art. 14.3 de Real Decreto 124/2017, de 24 de febrero, relativo al acceso a los recursos genéticos procedentes de taxones silvestres y al control de la utilización.
Estas informaciones se deben aportar completando los espacios destinados para ello que aparecen en la instancia de solicitud (formulario 5101; apartados 22 y 23, si la solicitud se realiza en formato papel o apartados 11 y 12, si la solicitud se realiza por vía electrónica).
Se debe tener en cuenta que, tal y como dispone la Ley 21/2015 de Patentes, estas informaciones no prejuzgarán la validez de la patente.
En la Sede Electrónica del Ministerio para la Transición Ecológica y Reto demográfico se encuentra información detallada sobre normativa, procedimientos y documentación necesaria:
Solicitar la declaración de diligencia debida de los usuarios que soliciten una patente ante la OEPM
Para cualquier duda o consulta puede dirigirse a: bzn-protocolonagoya@miteco.es
La CIP se publica en inglés y francés, denominados idiomas auténticos.
LA CIP se traduce también a los siguientes idiomas oficiales: alemán, chino, checo, coreano, eslovaco, español, japonés, neerlandés, polaco, portugués, ruso, serbio y ucraniano.
La OEPM es responsable de la traducción y publicación en español de cada versión de la CIP.