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Proceso de registro

 

Durante el procedimiento de tramitación de la solicitud de protección de una topografía de un producto semiconductor, la Ley de protección jurídica de  Topografías de los Productos Semiconductores contempla la realización de un examen formal, tras el cual la OEPM puede resolver concediendo o denegando el registro de la topografía.

 

1

Presentación de la solicitud

Cualquier persona puede solicitar la protección de una topografía de un producto semiconductor en la OEPM.

2

Otorgamiento de fecha de presentación y admisión a trámite

Dentro de los 10 días siguientes a la entrada de la solicitud, la OEPM examina si reúne los requisitos para poder otorgar una fecha de presentación y si se ha abonado la tasa por solicitud de registro. Si existen defectos, la OEPM los comunica al solicitante para que los subsane en el plazo 2 meses. Si no hay defectos, la solicitud se admite a trámite y se otorga fecha de presentación.

3

Examen de la solicitud y resolución (concesión o denegación)

La OEPM examina si la solicitud cumple los requisitos establecidos. Si existen defectos, la OEPM los comunica al solicitante para que los subsane o presente alegaciones en el plazo de 2 meses. Si no hay objeciones, se concede el registro y en caso contrario, se deniega. Esta resolución se publica en el BOPI y frente a ella se puede interponer recurso de alzada en el plazo de 1 mes desde la fecha de publicación de la resolución. A partir de ese momento, el expediente es consultable en la base CEO.

 

Información complementaria

 

  • Normativa de invenciones

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  • Tasas de invenciones

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  • Cómo puedes hacer los trámites

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